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半导体洁净室的日常清洁工作

文章来源:http://www.iwuchen.com/  2013年07月19日  点击数:5184

       半导体芯片制造要求做到非常精确。在镜头组件中所使用的元件是减震材料和薄膜。(Trelleborg Sealing Solutions)特瑞堡密封解决方案公司在英国蒂克斯伯里设有工厂,他们在洁净室环境里生产这些材料并封装,以降低污染的风险。

半导体洁净室的日常清洁工作

 

       在特瑞堡公司蒂克斯伯里的工厂,在洁净室环境中生产减震材料和薄膜。在半导体行业,衡量单位是纳米,以此为标准,基本上所有的微粒都是敌人。半导体芯片世界同时在两个方向齐头并进。芯片的功能越来越强大,同时能够提供更多的特性和功能,尺寸也越来越小。小型化要求制造工艺必须非常精确。

       Carl Zeiss SMT(半导体制造技术)向总部设在荷兰的ASML公司提供光学系统,ASML公司是全球领先的硅晶片生产平板印刷机的供应商。但是他们之间的合作关系已经远远超出普通的供应商与用户的关系。ASML机器被称为“晶片步进器”,在它的核心配备了Zeiss公司的光学元件,通过光蚀刻技术将芯片元件结构转移到硅片上。通过在掩膜上透明的模板和不透明的表面将强光导向覆有涂层的硅晶片上。

       Zeiss公司在设在德国上科亨的工厂生产光学元件,它能产生光并把光集中起来,将图像在面罩上的尺寸缩小到在晶片的必要区域。要达到所要求的精密细节,就必须使用最高纯度的玻璃,否则该系列的镜头就会使图像出现扭曲。光束也必须是准确定义的激光。一个限制芯片的尺寸特征是光的波长;Zeiss公司当前的光学元件使用193纳米波长的光。但是,如果洁净度达不到要求,纯度再高、制造工艺再好,都会失去意义。ASML公司的机器和Zeiss公司的镜头都必须在洁净室环境中进行生产和操作。Carl Zeiss SMT公司供应链经理chris Groger说,“它既可以防止微粒在镜头上积累,也可以防止灰尘污染芯片表面。”

       Zeiss公司的镜头组件所使用的元件都是由特瑞堡公司生产的防震材料和薄膜,这两种产品都是在特瑞堡公司设在英国蒂克斯伯里的工厂的洁净室环境中生产的,而且在设计阶段两家公司就已经展开了充分的合作。Groger说,“他们使用气体释放水平非常小的橡胶,而且橡胶与金属之间的连接必须达到非常高的标准。如果连接用的粘合剂不管以什么方式分解,它都会进入系统。”

       负责与特瑞堡公司有关的半导体业务的德国大客户经理Peter Krass说,“交付的元件都符合洁净室标准的要求,所以也就不需要做进行一步清洁。”

      
Flexclean服务保证元件达到高洁净度标准


       特瑞堡公司提供这种被称为Flexclean的服务,与竞争对手相比,它的优势是不需要将元件送到第三方进行清洁。Groger说,如果要将元件送到第三方清洁,往往需要额外的物流成本,而且存在更高的风险。特瑞堡公司在过去的许多年里,都在供应符合特殊的洁净度标准的产品,现在可以将这一服务纳入Flexclean服务品牌下。Flexclean意味着清洁度将三个标准融为一体:明确的微粒清洁度,避免涂料湿润损害基板,以及达到ISO 14644-1要求的五级洁净室质量。

       与此同时,技术要求一直在不断提高。为了能够不断地把更多的特性塞到更小的的芯片中,Zeiss公司和ASML公司共同研制出使用波长为13.5纳米超级紫外光光刻技术。这种紫外光的波长非常短,几乎所有材料都能够很好地吸收。因此,镜头也就没用了,Zeiss公司和ASML公司打算在光学系统的真空仓中使用近乎完美的镜子。

       Flexclean保证特瑞堡的元件符合高洁度标准的要求。经过十年的研制,第一台生产测试机器正式交付,虽然用户仍需要等待,看看在2012年的什么时候芯片会出现在他们的电子产品中。

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