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KLA发布全新缺陷检测与检视产品组合(利好洁净室)
文章来源：http://www.iwuchen.com/ 2019年07月18日 点击数：3434
加利福尼亚州米尔皮塔斯，2019年7月9日- KLA公司今日发布392x和295x光学缺陷检测系统和eDR7380™电子束缺陷检视系统。这些全新的检测系统是我们公司旗舰产品系列——图案晶圆平台的进一步拓展，其检测速度和灵敏度均有提升，代表了光学检测的新水准。全新电子束检视系统的创新使其自身价值进一步稳固，并成为缺陷和发现其产生根源之间的必要一环。对于领先的3D NAND、DRAM和逻辑集成电路（IC），该产品组合将缩短整个产品周期，加快其上市时间。
“为了有利润地制造下一代内存和逻辑芯片，对所需的制程控制要求之高也是前所未有的，”KLA国际产品部执行副总裁Ahmad Khan说。“元件结构变得更小、更窄、更高、更深，并且形状更为复杂以及材料更为新颖。将缺陷与其他无害的物理变化分开——也就是从噪声中分离出所需信号——已成为一个非常棘手的难题。我很高兴地宣布我们的光学和电子束工程团队开发了一系列创新的系统，将缺陷的检测和检视相结合，这将推动我们的行业继续向前发展。”
392x和295x光学图案晶圆缺陷检测系统在宽光谱等离子照射技术，传感器架构和整合芯片设计数据等方面都取得实质性的进步，其灵敏度、产量和良率相关的缺陷分类等功能都是业界翘楚。因此，与领先业界的前一代产品相比，新系统可以更为迅速地发现缺陷并提升良率，同时提供更为全面的在线监控。对于包括EUV光刻质量控制在内的各种检测应用，392x和295x系统可以提供不同的波长范围并涵盖从浅沟槽隔离到金属化的所有制程层。
凭借一流的图像质量和通过一次测试获得完整缺陷分布图的独特能力，eDR7380电子束晶圆缺陷检视系统可以在产品开发中更加迅速地捕获缺陷源，同时在生产制造中更快地检测偏移并且获取更为准确及可操作的数据。该系统能够对脆弱的EUV光刻工艺层进行检视。与KLA检测仪的独特结合可以缩短获取结果的时间，促进多种的KLA特定应用的使用，并通过智能采样和高效缺陷数据交换提升检测的灵敏度。
392x、295x和eDR7380系统都可用作新系统或者对上一代的39xx、29xx或eDR7xxx系统进行升级。这些系统均具有未来的可扩展性，从而保护晶圆厂的资本投资。
“为了有利润地制造下一代内存和逻辑芯片，对所需的制程控制要求之高也是前所未有的，”KLA国际产品部执行副总裁Ahmad Khan说。“元件结构变得更小、更窄、更高、更深，并且形状更为复杂以及材料更为新颖。将缺陷与其他无害的物理变化分开——也就是从噪声中分离出所需信号——已成为一个非常棘手的难题。我很高兴地宣布我们的光学和电子束工程团队开发了一系列创新的系统，将缺陷的检测和检视相结合，这将推动我们的行业继续向前发展。”
392x和295x光学图案晶圆缺陷检测系统在宽光谱等离子照射技术，传感器架构和整合芯片设计数据等方面都取得实质性的进步，其灵敏度、产量和良率相关的缺陷分类等功能都是业界翘楚。因此，与领先业界的前一代产品相比，新系统可以更为迅速地发现缺陷并提升良率，同时提供更为全面的在线监控。对于包括EUV光刻质量控制在内的各种检测应用，392x和295x系统可以提供不同的波长范围并涵盖从浅沟槽隔离到金属化的所有制程层。
凭借一流的图像质量和通过一次测试获得完整缺陷分布图的独特能力，eDR7380电子束晶圆缺陷检视系统可以在产品开发中更加迅速地捕获缺陷源，同时在生产制造中更快地检测偏移并且获取更为准确及可操作的数据。该系统能够对脆弱的EUV光刻工艺层进行检视。与KLA检测仪的独特结合可以缩短获取结果的时间，促进多种的KLA特定应用的使用，并通过智能采样和高效缺陷数据交换提升检测的灵敏度。
392x、295x和eDR7380系统都可用作新系统或者对上一代的39xx、29xx或eDR7xxx系统进行升级。这些系统均具有未来的可扩展性，从而保护晶圆厂的资本投资。
所有新系统都已在全球领先的IC制造厂中安装运行，与其他机台一起共同用于制造创新的电子元件。为了确保芯片制造商所需的高性能和高生产效率，KLA全球综合服务网络将对392x、295x和eDR7380系统提供支持。
源自净化工程：http://www.iwuchen.com/ 微信公众号：rfilter 董生137-10902965
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